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高纯氧气超纯氧气
超纯氧气给人们带来了很大的好处,比如在医院给缺氧的病者给予呼吸等,下面我就给大家介绍一下超纯氧气。
概述
高纯气体对于不同类别的气体,纯度指标不同,超纯氧气便宜,例如对于氮,氢,---而言,通常指纯度等于或高于99.999%的为高纯气体;而对于氧气,纯度为99.99%即可称高纯氧;对于碳氢化合物,纯度为99.99%的即可认为是高纯气体。高纯气体应用领域极宽,超纯氧气,在半导体工业,高纯氮、氢、、---可作为运载气和保护气;高纯气体可作为配制混合气的---,高纯气体根据分子结构的不同可以分为有机高纯气体,和无机高纯气体。
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首先按照摩尔比1:1比例取出浓度大于99.9%,粒度小于500微米的硅粉和碳粉,然后进行两次合成。在初次合成步骤中,将所取硅粉和碳粉混合均匀放入坩埚中,再将坩埚置于中频感应加热炉,并对加热炉的生长室抽真空,除去其中的氧气和氮气,同时将温度升高至1000摄氏度。然后向生长室中充入高纯度的---气和氢气的混合气体,超纯氧气,加热至1500摄氏度,保持反应时间15分钟,而后降至室温,后将反应后的产物中大于1厘米的团聚物碾成小于1毫米的粉末。
在二次合成步骤中,将上述产物粉末混合均匀重新放入坩埚,并将坩埚再次置于中频感应加热炉,抽真空环境,升高温度到1000摄氏度,通入---气和氢气的混合气体。然后升高温度到1600摄氏度到2000摄氏度,保持反应合成时间2小时到10小时,再降至室温。通过这两步即可以得到粒度小于20微米的适用于半导体碳化硅硅单晶生长的高纯碳化硅粉,采用粉末衍射法(xrd)对初次合成和二次合成产物进行物相分析,得到的xrd如图1所示,通过分析可以发现初次合成粉末有硅和碳的单质剩余,而二次合成则可以使得反应完全,得到纯度更高的碳化硅。
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人是靠吸取氧气而吐出---生存的。氧气在身体里开始循环补充内脏的机能,在各种酶的作用下产生身体所需要的各种养分来维持生命。冬季使用电瓶时,瓶阀或减压器可能出现结霜现象,或用热水或蒸汽解冻,严禁用火烘烤或用铁器敲击瓶阀,也不能猛拧减压器的调节螺丝,以防气体大量冲出造成事故。
利用氮分子大于氧分子的特性,使用的分子筛把空气中的氧离分出来。首先,用压缩机迫使干燥的空气通过分子筛进入---真空的吸附器中,空气中的氮分子即被分子筛所吸附,氧气进入吸附器内,当吸附器内氧气达到一定量(压力达到一定程度)时,即可打开出氧阀门放出氧气。经过一段时间,分子筛吸附的氮逐渐增多,吸附能力减弱,产出的氧气纯度下降,需要用真空泵抽出吸附在分子筛上面的氮,然后重复上述过程。这种制取氧的方法亦称吸附法,利用吸附法制氧的小型制氧机已经开发出来,便于家庭使用。
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